磁控溅射法生长Fe膜及其性质分析
磁控溅射法生长Fe膜及其性质分析
摘要：磁控溅射技术已经成为各种功能薄膜的重要手段并且在多个领域得到广泛的应用 。利用新型的磁控溅射技术能够实现薄膜的高速沉积、高纯薄膜制备、提高反应溅射沉积薄膜的质量等。本文在了解磁控溅射原理的基础上,对磁控溅射方法制作的Fe纳米薄膜进行XRD,STM，VSM分析,估计薄膜的厚度并研究其表面形貌,结构表征，磁性质等相关性质。
关键词：磁控溅射 Fe纳米薄膜，表面形貌，结构表征，磁性质
Characterization Analysis of Fe Thin Film Made by Magnetron Sputtering Technique
Kang li
School of Physical Since and Technology, Southwest China University, Chongqing 400715, China
Abstract: The magnetron sputtering technique have already become deposition to bear to whet、bear eclipse、decorate、optical and other various important means of function thin film and gotten a more extensive application in several realms, it is a current research of a little bit hot that using of the magnetron sputtering technique to make the function thin film on light-electricity、light-hot、magnetic、superconductor、medium、catalyst etc. This text based on the understanding of the principle of the magnetron sputtering, analysis using of the method the magnetron sputtering technique is to make Fe thin film under the certain condition, and make approximation of the thickness of thin film, then analysis the surface and structure features and magnetic property.
Key words: The magnetron sputtering F e-thin film surface and structure feature magnetic property
引言
纳米科学技术是20世纪80年代中后期逐渐发展起来的，融介观体系物理、量子力学等现代科学为1体并与超微细加工、计算机、扫描隧道显微镜等先进工程技术相结合的多方位、多学科的新科技。它是在1～100ｎｍ尺度上研究自然界现象中原子、分子行为与规律，以期在深化对客观世界认识的基础上，实现由人类按需要制造出性能独特的产品。纳米科技的出现，无疑是现代科学的重大突破，它在材料科学、凝聚态物理学、机械制造、信息科学、电子技术、生物遗传、高分子化学以及国防和空间技术等众多领域都有着广阔的应用前景，因而对它的研究受到了世界范围的高度重视。纳米科技的研究与发展，无疑将极大地改变人们的思维方式和传统观念，深刻影响国民经济的未来发展[1]。
在本文中我采用磁控溅射方法在1定条件下制作Fe纳米薄膜样品,并研究了它的磁性质及结构,表面形貌等相关性质.
1.溅射镀膜基础
溅射镀膜通常是利用气体放电产生的正离子在电场作用下高速轰击作为阴极的`靶体，使靶体中的原子（或分子）逸出，沉积到被镀基体的表面，形成所需要的薄膜。由于溅射镀膜能制备许多不同成分和特性的功能薄膜，因此，现在已经发展成为1种重要的镀膜方式。
1.溅射基本原理
第1种假设认为，离子碰撞1个特定的位置所引起的局部加热使粒子
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